Ny indostrian'ny semiconductor, satria ny fototry ny fampandrosoana ny teknolojia maoderina dia mitaky ny fitoviana avo lenta sy fahadiovana avo lenta amin'ny fizotrany. Ny entona manokana ho an'ny semiconductors dia manondro ny gazy izay manana anjara toerana lehibe amin'ny famokarana ara-materialy Semiconductor, famokarana chip, famokarana sarimihetsika, etching ary dingana hafa. Ireo entona ireo dia tsy maintsy mifanaraka amin'ny fepetra takiana amin'ny fahadiovana, ny fahamarinan-toerana ary ny fifehezana tsara ny fizotrany. Ity lahatsoratra ity dia hampiditra entona manokana manokana izay ampiasaina amin'ny semiconductors ary miresaka momba ny anjara asany ao amin'ny fizotran'ny semiconductor.

1. Hydrogen (h₂)

hydrogène Ampiasaina amin'ny toeram-pitrandrahana Semiconductor be dia be, indrindra amin'ny fametahana simika simika (CVD) sy ny fanehoan-kevitra fampihenana. Ao amin'ny CVD, hydrogen matetika dia mifangaro amin'ny gazy hafa mba hamboly horonantsary manify, toy ny sarimihetsika silicon. Ny hidrogen koa dia miasa toy ny fampihenana ny fampihenana ny disikileta vy sy ny fizotran'ny fanesorana ny oxide. Ankoatr'izay, ny hydrogen dia ampiasaina amin'ny fanadiovana sy ny fitsaboana ny semiconductor Wasers handà ny fomba mahomby ary hanatsarana ny kalitaon'ny sôkôla.

2. Nitrogen (n₂)

azota, entona entona tsy ampoizina indrindra, dia ampiasaina indrindra hanomezana tontolo iainana tsy misy oksizenina amin'ny fanamboarana semiconductor. Matetika izy io dia ampiasaina amin'ny fanadiovana ny fitaovana, ny fizotran-javatra mangatsiaka, ary toy ny diluent amin'ny atmospheres fanehoan-kevitra. Ao amin'ny fandroahana ny setroka sy ny fizotran'ny umching, ny azota dia mifangaro amin'ny gazy hafa mba hanamafisana ny toe-batana sy fifehezana ny tahan'ny fihetsika. Ny azota dia ampiasaina ihany koa mba hanafoanana ny oxidation, miaro fitaovana saro-pady amin'ny fahasimban'ny oxidation.

3. Oxygen (o₂)

oksizenina Milalao ny anjara toerana lehibe ao amin'ny indostrian'ny Semiconductor, indrindra amin'ny fizotran'ny oxidation. Ao amin'ny fananganana takelaka dioxide silicon eo amin'ny velaran'ny silicon Wafers, dia ilaina ny oksizenina. Amin'ny alàlan'ny fampidirana ny oxygen, ny takelaka misy omby mitovy amin'ny silicon, izay tena ilaina amin'ny fampisehoana herinaratra sy ny fitoniana fitaovana. Ny oxygen dia ampiasaina amin'ny fanadiovana sy ny fanadiovana ary ny fanehoan-kevitra amin'ny entona simika hafa mba hamolavola oxides na hanala ny sarimihetsika metaly sasany.

4. Tetrafluoride karbona (cf₄)

Ny tetrafluoride karbonika dia ampiasaina amin'ny fomba fiasa amin'ny etika. Ao amin'ny semiconductor etching, cf₄ dia afangaro amin'ny gazy hafa mba hanesorana tsara ny sarimihetsika manify, silicon nitride, metaly, ary fitaovana hafa. Rehefa mitambatra amin'ny fluorine ny CF₄, dia mamolavola fluorides, izay manana fihetsika mahery vaika ary afaka manaja ny fitaovana kendrena. Ity entona ity dia tena zava-dehibe amin'ny lamina tsara indrindra izay miorim-paka ao amin'ny famokarana fizaran-tany mitambatra.

5. Hydrogen klorida (hcl)

Ny entona klôroy hidrogen dia ampiasaina ho toy ny entona etching, indrindra amin'ny setroka metaly metaly. Izy io dia mihetsika amin'ny sarimihetsika metaly mba hamoronana klorida, ahafahana esorina ny sosona vy. Ity dingana ity dia ampiasaina amin'ny fomba maro ao amin'ny klatin'ny sarimihetsika metaly manify, miantoka ny fahatongavan'ireo rafitry ny chip.

6. Nitrogen trifluoride (nf₃)

Nitrogen Trifluorida dia ampiasaina amin'ny fidiran'ny fandroahana ao amin'ny fitaovana etching plasma. Ao amin'ny ranon-dresaka ao amin'ny Plasma etching dia mihetsika miaraka amin'ny fitaovana voatahiry (toy ny fluorides silicon) mba hametrahana fluorides mora azo esorina. Ity entona ity dia mahomby amin'ny fomba fanadiovana, manampy amin'ny fitazonana ny fahadiovan'ny fitaovana etching sy hanatsarana ny fahitsiana sy ny fahombiazan'ny fizotry ny famokarana.

7. Silane (Sih₄)

Silane dia entona mahazatra ampiasaina amin'ny fametahana simika simika (CVD), indrindra amin'ny fametrahana filma manify. Silane dia mihena amin'ny mari-pana avo mba hamolavola sarimihetsika silicon eo amin'ny substrate, izay tena zava-dehibe amin'ny fanamboarana semiconductor. Amin'ny fanitsiana ny fizotran'ny silane sy ny toe-potoam-pitsarana, ny tahan'ny fandefa sy ny kalitao kalitao dia azo fehezina tsara.

8. Boron trifluoride (bf₃)

Boron Trifluoride dia entona iray manan-danja amin'ny doping, mazàna ampiasaina amin'ny fizotran'ny boron doping ao amin'ny fanamboarana semiconductor. Ampiasaina hanitsiana ny fananan'ny herinaratra ny kristaly ny kristaly amin'ny fanehoan-kevitra miaraka amin'ny stricon subsrate mba hamolavola ny sosona doping tiana. Ny fizotran'ny boron doping dia ilaina amin'ny famoronana fitaovana semiconductor p-type, ary ny entona bf₃ dia manana anjara toerana lehibe amin'ity dingana ity.

9. Sulfur hexabluoride (sf₆)

Sulfur hexabluoride Ampiasaina amin'ny fizotran'ny semiconductor sy ny fizotran'ny semiconductor, indrindra amin'ny fitrandrahana avo lenta. Noho ny fananan-kery elektronika avo sy ny fahamarinan-toerana simika, ny SF₆ dia azo atambatra amin'ny entona hafa mba hanesorana ny sarimihetsika ara-nofo ary hiantoka ny lamina tsara. Izy io dia ampiasaina be amin'ny ion etching, manala ny sarimihetsika metaly tsy ilaina.

Famaranana

Ny entona manokana ho an'ny semiconductors dia manana anjara toerana tsy azo ihodivirana amin'ny famokarana fizahan-tany mitambatra. Rehefa manohy ny teknolojia dia mitombo ny fitakiana ny fahadiovana sy ny fanatanterahana ny gazy ireo, ary ny fitomboan'ireo mpamatsy mba hanatontosa ny kalitao sy ny karazana gazy. Amin'ny ho avy, ny indostrian'ny semiconductor dia hanohy hiantehitra amin'ireto entona manokana ireto mba hanohanana ny famokarana ny sôkôla sy ny teknolojia manaraka. Noho izany, ny fahatakarana sy ny fampiharana ny entona manokana Semiconductor dia hitsikera ny fitondra ny fampandrosoana mitohy ny indostrian'ny Semiconductor.