Ярымүткәргечләр өчен махсус газлар

2025-04-23

Ярымүткәргеч индустрия, заманча технологик үсеш үзәге буларак, аның җитештерү процессында бик күп санлы һәм чиста чисталык газларын үз эченә ала. Ярымүткәргечләр өчен белгечлекләр ярымүткәргеч материал җитештерү, чип җитештерү, нечкә филь-филь-фильләштерү, һәм башка процесслар өчен төп роль уйнаган газларны аңлата. Бу газлар чисталык, тотрыклылык, реакция процессларына төгәл контроль таләп итәргә тиеш. Бу мәкалә ярымүткәргечләрдә кулланылган берничә уртак газны кертәчәк һәм ярымүткәргеч җитештерү процессында аларның рольләре турында сөйләшәчәк.

 

  1. Водород (h₂)

Водоген Ярымүткәргеч җитештерүдә киң кулланыла, аеруча химик парлар (CVD) һәм төзәтү реакцияләре. CVD-та водород еш кына кремний фильмнары кебек нечкә фильмнарны үстерү өчен еш кына башка газлар белән кушыла. Гидрогор шулай ук ​​металл чүплектә һәм оксидны бетерү процессларында кыскартучы агент булып эшли. Моннан тыш, водород семиконтуктура чистартуда һәм дәвалауда кулланыла, өслек пычраткыч матдәләрне эффектив рәвештә чыгару һәм чипларның сыйфатын яхшырту.

 

Водород 99,999% чисталык h2

  1. Азот (n₂)

Азот, Интерт газ, нигездә, ярымүткәргеч җитештерүдә кислород-бушлай мохит бирү өчен кулланыла. Бу гадәттә җиһазларны чистарту, суыту процессларында, реакция атмосферасында бәяләү рәвешендә кулланыла. Парның парлы чүплегендә һәм эфир процессларында азот процессларын тотрыклыландыру һәм реакция ставкасын контрольдә тоту өчен еш кына башка газлар белән кушыла. Нитроген шулай ук ​​оксидлашу зыяныннан сизгер материалларны яклау өчен оксидлашу өчен кулланыла.

Электрон индустрия 99,999% чисталык n2 азот

  1. Кислород (O₂)

Кислород Ярымүткәргеч сәнәгатендә, аеруча оксидлаштыру процессларында, аеруча мөһим роль уйный. Кремний сарыклары өслегендә кремний диоксид катламы формалашуда, кислород бик мөһим. Оксоренны, электр специализациясе һәм җайланма тотрыклылыгы өчен бик мөһим, кислород, форма катламы кертеп. Кислород шулай ук ​​чистартуда һәм чыгарганда, оксидлар формалаштыру яки билгеле металл фильмнарны формалаштыру өчен башка химик газлар белән реакциядә кулланыла.

Кислород 99,999% чисталык o2 газ

  1. Углерод тетаплуорид (CF₄)

Углерод тетраплуориды этаз эшкәртү процессларында киң кулланыла. Ярымүткәргечлектә CF₄ кремний, кремний нитрид, металл һәм башка материалларның нечкә фильмнарын эффектив чыгару өчен башка газлар белән кушыла. CF₄ фтор белән комбайнгач, ул көчле реактивлык һәм максатлы материалны эффектив рәвештә чыгара ала. Бу газ интеграль цирк җитештерүдә югары төгәллек үрнәге өчен бик мөһим.

 

  1. Водород хлорид (HCL)

Годород хлорид газы, беренче чиратта, эчә торган газ буларак, аеруча металл материаллар чыгаруда кулланыла. Бу металл фильмнар белән хлоридлар ясау өчен, металл фильмнар белән реакция, металл катламнарны бетерергә мөмкинлек бирә. Бу процесс чип корылмаларның төгәллеген тәэмин итүдә киң кулланыла.

 

  1. Азот өчпочмак (NF₃)

Нитроген Trifluorid Плазмада чыгару калдыкларын чистарту өчен кулланыла. Плазма процессларында, Nf₃ ябыштырылган материаллар белән реакция ясаган материаллар белән реакцияләр (мәсәлән, җиңел күчерелә торган флаг формалаштыра. Бу газ чистарту процессында бик эффектив, чыгаручы җиһазларның чисталыгын сакларга һәм җитештерү процессларының төгәллеген һәм эффективлыгын яхшыртырга булышалар.

 

  1. Силан (sih₄)

Силан - химик парлаштыруда гадәттә кулланылган газ, аеруча кремний нечкә фильмны депозитивлаштырган өчен. Силайн югары температурада силикон фильмнарын семиконт җитештерүдә кремний фильмнары формалаштыру өчен, югары температурада селаса. Силан һәм реакция шартларын көйләп, чүпләү ставкасы һәм кино сыйфаты төгәл контрольдә тота ала.

 

  1. Борон Trifluoride (BF₃)

Борон trifluoride - мөһим допинг газ, гадәттә ярымүткәргеч җитештерүдә борылган допинг процессында кулланыла. Ул кристаллның электрлы үзлекләрен көйләү өчен кулланыла, крейний субстрат белән кирәкле допинг катламын формалаштырып. Борон допинг процессы P-Type ярымүткәргеч материалларын булдыру өчен бик мөһим, һәм BF₃ газы бу процесста мөһим роль уйный.

 

  1. Күкерт Хексафлуалид (SF₆)

Күкерт Хексафлуорид Нигездә ярымүткәргечләрдә кулланылган ярымфинг процессларында кулланыла, аеруча югары төгәллектә. Аның югары электр изоляциясе һәм химик тотрыклылык аркасында, SF₆ материаль фильмнарны төгәл чыгару һәм төгәл үрнәкләрне тәэмин итү өчен башка газлар белән берләштерелергә мөмкин. Ул шулай ук ​​кирәкмәгән металл фильмнарны эффектив рәвештә чыгарып, эхәриядә дә киң кулланыла.

Күкерт Хексафлуорид 99.999% чисталык SF6

Йомгаклау

Ярымүткәргечләр өчен махсус газлар интеграль схемалар җитештерүдә алыштыргысыз роль уйныйлар. Технология дәвам иткәнчә, югары сафлыкларга һәм бу газларның сафлыгына һәм газларның сыйфатын һәм төрләрен гел оптимальләштерергә этәрә. Киләчәктә ярымүткәргеч сәнәгать киләсе буын чипс һәм технологик инновацияләр җитештерүне хуплау өчен бу белгечлек газларына таяначак. Шуңа күрә ярымүткәргеч белгечлеге газларын аңлау һәм куллану ярымүткәргеч сәнәгатенең өзлексез үсешендә бик мөһим булачак.