Технологиянең тиз алгарышлары, яңа продуктив көчләр үстерү һәм югары сыйфатлы үсешне пропагандалау төп игътибар белән милли үсеш өчен төп игътибар булып калды. Чиплар, панельләр, фотоволата, батарея материаллары белән кискен кырларда Силан төп чимал кебек мөһим роль уйный. Хәзерге вакытта бөтен дөнья буенча берничә ил генә электрон класслы Силан газын мөстәкыйль ала ала.

Хужон газы тармакның алдынгы пропорциясен куллана Электрон класслы Силан газы җитештерә. Бу процесс саф һәм җитештерү куәтен алып бармый, шулай ук ​​экологик йогынты ясый, компаниянең яшел һәм тотрыклы үсешенә буйсынуны киметә.

Pructroportion процессы бер үк вакытта урта офидация дәүләтендәге элементлар булган химик индустриаль реакцияне аңлата, ике яки күбрәк төрле продукт тудыра, ике яки күбрәк төрле продукт тудыра. Хлорозиланнарның пропорциональациясе - Хлороиланны Силан җитештерергә кушкан реакцияләр сериясе.

Беренчедән, кремний порошогы, водород, кремний кремний тетиклорид трихлорозилан формалаштырырга тиеш:
Si + 2H2 + 3SICL4 → 4sihcl3.

Аннары, Трихлороилан Дичлороилан һәм Кремний Тетрахлорид булдыру өчен пропорциональ рәвештә тарала:
2sihcl3 → sih2cl2 + sicl4.

Аннары Дичлороилан Трихлоропоилан һәм Монохидросилан формасын алга таба тарата:
2sih2cl2 → sih3cl + sihll3.

Ниһаять, Моногидросилан Силан белән Дичлороилан чыгару өчен пропорциональ рәвештә тарала:
2sih3cl → sih2ckl2 + sih4.

Хуҗонг газы бу процессларны, ябык җитештерү системасын булдыра. Бу калдыкларны киметми, чималның куллану тизлеген дә арттыра, җитештерү чыгымнарын эффектив киметү һәм әйләнә-тирә мохит тәэсирен эффектив киметә.

Киләчәктә Хаужонг газы реакция параметрларын опекациядә дәвам итәчәк һәм тәэмин итәчәк югары сыйфатлы электрон класс Силан газы Сәнәгать үсешен алга җибәрү һәм югары сыйфатлы үсешкә булышу өчен!