Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းသည်အဓိကအမျိုးအစားသုံးမျိုးခွဲခြားနိုင်သည့်ဓာတ်ငွေ့အမျိုးမျိုးကိုမှီခိုသည်။ အမြောက်အများဓာတ်ငွေ့, အထူးဓာတ်ငွေ့နှင့်ဓာတ်ငွေ့စွဲ။ ဤဓာတ်ငွေ့များသည်ညစ်ညမ်းမှုကိုကာကွယ်ရန်အလွန်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်စေရမည်။ ၎င်းသည်နူးညံ့သိမ်မွေ့ပြီးရှုပ်ထွေးသောထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်ကိုပျက်စီးစေနိုင်သည်။

အမြောက်အများဓာတ်ငွေ့

နိုက်ထရိုဂျင် (n₂):

အခန်းကဏ်:: n₂သည်လုပ်ငန်းစဉ်အခန်းများကိုသန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်းနှင့်ဆီမီးကွန်ဒတ်တင်ခြင်းကုန်ထုတ်လုပ်မှုအဆင့်အမျိုးမျိုးတွင်လုပ်ငန်းစဉ်အခန်းများကိုသန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်းအပါအ 0 င်ရည်ရွယ်ချက်များစွာပါဝင်သည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - နိုက်ထရိုဂျင်သည်ဆီလီကွန်ယက်သမားများ၏သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးနှင့်သိုလှောင်မှုအတွက်ဓာတ်တိုးမှုလျော့နည်းစေရန်သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးနှင့်သိုလှောင်မှုများတွင်မကြာခဏအလုပ်ခန့်ထားလေ့ရှိသည်။ ၎င်း၏ inert သဘောသဘာဝသည်အခြားပစ္စည်းများနှင့်မတုံ့ပြန်နိုင်ကြောင်းသေချာစေပြီးသန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်ပတ် 0 န်းကျင်ကိုထိန်းသိမ်းရန်အတွက်အကောင်းဆုံးဖြစ်သည်။

အာဂွန် (ar):
အခန်းကဏ်:: ပလာစမာလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ပါ 0 င်မှုအပြင်အာရွန်သည်ထိန်းချုပ်ထားသောဓာတ်ငွေ့ရေးစပ်သီကုံးများအရေးပါသောလုပ်ငန်းစဉ်များ၌ပါဝင်သည်။
အပိုထပ်ဆောင်းမှတ်စုများ - အဘယ်ကြောင့်ဆိုသော်၎င်းသည်ပစ္စည်းအများစုနှင့်မကိုက်ညီသောကြောင့်အာရွန်သည်စပိန်ကို သုံး. ,

ဟီလီယမ် (သူ):
အခန်းကဏ်: - ဟီလီယမ်၏အပူဂုဏ်သတ္တိများသည်ဓာတ်ပြုသည့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်အပူချိန်ကိုက်ညီမှုကိုအအေးခံခြင်းနှင့်ထိန်းသိမ်းခြင်းအတွက်တန်ဖိုးမဖြတ်နိုင်သောအရာဖြစ်သည်။
အပိုထပ်ဆောင်းမှတ်စုများ - ၎င်းသည်ပုံမှန်အားဖြင့် lithraphy အတွက် lithography အတွက် lithography အတွက် lithography အတွက်အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။

ဟိုက်ဒရိုဂျင် (H₂):
အခန်းကဏ်:: annealing application ကိုကျော်လွန်ပြီးနောက်ပိုင်းတွင်ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည် 0 တ်ဆင်သူများ၏မျက်နှာပြင်ကိုသန့်ရှင်းရေးလုပ်ရန်ကူညီသည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ကားများကိုအစုလေးများအစတွင်ဟိုက်ဒရိုဂျင်အသုံးပြုခြင်းကိုအသုံးပြုခြင်းသည် Semiconductor ပစ္စည်းများရှိသယ်ဆောင်သူများ၏အာရုံစူးစိုက်မှုအပေါ်ပိုမိုထိန်းချုပ်ရန်ခွင့်ပြုသည်။

အထူးဓာတ်ငွေ့နှင့် dopants

silane (sih₄):
အခန်းကဏ်: - ဆီလီကွန်အယူအဆအတွက်ရှေ့ပြေးမဖြစ်ဘဲအီလက်ထရောနစ်ဝိသေသလက္ခဏာများကိုတိုးတက်စေသည့်အတွင်းပိုင်း passane ကို polymerized နိုင်သည်။
အပိုထပ်ဆောင်းမှတ်စုများ - ၎င်း၏တုန့်ပြန်မှုသည်လုံခြုံရေးဆိုင်ရာစိုးရိမ်မှုများကြောင့်အထူးသဖြင့်လေထုသို့မဟုတ်အောက်စီဂျင်နှင့်ရောနှောနေသည့်အချိန်တွင်သတိထားရန်လိုအပ်သည်။

အမိုးနီးယား (Nh₃):
အခန်းကဏ်:: Nitride ရုပ်ရှင်ထုတ်လုပ်ခြင်းအပြင်အမိုးနီးယားသည် semiconductor devices များ၏ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကိုမြှင့်တင်ပေးသည့် passivation အလွှာများကိုထုတ်လုပ်ရာတွင်သိသာထင်ရှားသည်။
အပိုထပ်ဆောင်းမှတ်စုများ - နိုက်ထရိုဂျင်ကိုဆီလီကွန်သို့ထည့်သွင်းရန်လိုအပ်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်အီလက်ထရောနစ်ဂုဏ်သတ္တိများတိုးတက်စေရန်အတွက်ပါ 0 င်နိုင်သည်။

Phosphine (PH₃), Arsine (Ash₃) နှင့် Diboroane (B₂H₆):
အခန်းကဏ်: - ဤဓာတ်ငွေ့များသည် doping အတွက်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သော်လည်းတပ်မက်လိုချင်သောလျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကိုအဆင့်မြင့်သော Sememonductor Device များတွင်လည်းအလွန်အရေးကြီးသည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - သူတို့၏အဆိပ်အတောက်မှုများသည်တင်းကျပ်သောလုံခြုံစိတ်ချရသော protocols များကိုလိုအပ်ပြီးအန္တရာယ်များကိုလျော့ပါးစေရန်ဖန်တီးထားသောပတ်ဝန်းကျင်တွင်စနစ်များကိုစောင့်ကြပ်ရန်လိုအပ်သည်။

etching နှင့်သန့်ရှင်းရေး

fluorocarbons (cf₄, sf₆):
အခန်းကဏ်: - ဤဓာတ်ငွေ့များသည်စိုစွတ်သောရိုးရှင်းသောနည်းစနစ်များနှင့်နှိုင်းယှဉ်လျှင်မြင့်မားသောတိကျမှုကိုပေးသောအပူပိုင်းဒေသလုပ်ငန်းများတွင်အသုံးပြုသည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - cf₄နှင့်sf₆သည် Silicon-based ပစ္စည်းများအားထိထိရောက်ရောက်စုစည်းနိုင်စွမ်းရှိခြင်းကြောင့်ခေတ်သစ် Microelectronics တွင်ကောင်းမွန်သောပုံစံဆုံးဖြတ်ချက်ကိုခွင့်ပြုသည်။

ကလိုရင်း (cl₂) နှင့်ဟိုက်ဒရိုဂျင်ဖလိုရိုက် (HF):
အခန်းကဏ်:: ကလိုရင်းသည်အထူးသဖြင့်သတ္တုများအထူးသဖြင့်သတ္တုများအတွက်ရန်လိုသောစွဲမြဲစွမ်းရည်များကိုပေးသည်။
အပိုထပ်ဆောင်းမှတ်စုများ - ဤဓာတ်ငွေ့များပေါင်းစပ်ခြင်းသည်အမျိုးမျိုးသောလုပ်ကြံထုတ်လုပ်မှုအဆင့်များအတွင်းထိရောက်သောအလွှာဖယ်ရှားပေးသည်။

နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride (nf₃):
အခန်းကဏ်:: NF₃သည် CVD စနစ်များတွင်ပတ် 0 န်းကျင်သန့်ရှင်းရေးအတွက်အဓိကသန့်ရှင်းရေးအတွက်အဓိကကျသောသန့်ရှင်းရေးအတွက် pivotal ဖြစ်သည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - ဖန်လုံအိမ်ဓာတ်ငွေ့အလားအလာနှင့် ပတ်သက်. စိုးရိမ်ပူပန်မှုများရှိသော်လည်းNF₃၏စွမ်းဆောင်ရည်သည်စက်ရုံများစွာတွင်ရွေးချယ်စရာများကိုပိုမိုနှစ်သက်သည်။

အောက်စီဂျင် (o₂):
အခန်းကဏ် - - အောက်စီဂျင်ကအထောက်အကူပြုသည့်ဓာတ်တိုးများဖြစ်ပေါ်စေသောဓာတ်တိုးများဖြစ်စဉ်များသည် Semiconductor ဖွဲ့စည်းပုံတွင်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သောလျှပ်ကာအလွှာများကိုဖန်တီးနိုင်သည်။
အပိုဆောင်းမှတ်စုများ - ဆီလီကွန်၏ဓာတ်တိုးမှုကိုတိုးမြှင့်စေရန်အတွက်အောက်စီဂျင်၏အခန်းကဏ် sector ကိုSio₂အလွှာများဖြစ်ပေါ်စေရန်အတွက်အရေးပါသည်။

Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုအတွက်ထွန်းသစ်စဓာတ်ငွေ့

အထက်တွင်ဖော်ပြထားသောရိုးရာဓာတ်ငွေ့များအပြင်အခြားဓာတ်ငွေ့များအပြင်အခြားဓာတ်ငွေ့များသည် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အာရုံစူးစိုက်နေကြသည်။

ကာဗွန်ဒိုင်အောက်ဆိုက် (Co₂): အထူးသဖြင့်အဆင့်မြင့်ပစ္စည်းများပါ 0 င်သူများအားအချို့သောသန့်ရှင်းရေးနှင့် applinging application များတွင်အသုံးပြုသည်။

ဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုက် (Sio₂): ပုံမှန်အခြေအနေများအရဓာတ်ငွေ့မဟုတ်သော်လည်းအချို့သောအစုရှယ်လိုအပ်မှုဖြစ်စဉ်များတွင်ဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်တွင်ရှိသောဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်ပုံစံများကို အသုံးပြု. အသုံးပြုသည်။

သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ထိန်းခြင်း

Semiconductor Industry သည်အထူးသဖြင့်အစွမ်းထက်ဖန်လုံအိမ်ဓာတ်ငွေ့များဖြစ်သောကြောင့်အမျိုးမျိုးသောဓာတ်ငွေ့များအသုံးပြုခြင်းနှင့်ဆက်စပ်သောသဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာသက်ရောက်မှုများကိုလျှော့ချရန်ပိုမိုအာရုံစိုက်လာသည်။ ၎င်းသည်အဆင့်မြင့်ဓာတ်ငွေ့စီမံခန့်ခွဲမှုစနစ်များဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့်အလားတူအကျိုးကျေးဇူးများကိုနိမ့်ကျသောခြေရာနှင့်အလားတူအကျိုးကျေးဇူးများပေးနိုင်သည့်အခြားဓာတ်ငွေ့များရှာဖွေခြင်းကိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။

ကောက်ချက်

Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင်အသုံးပြုသောဓာတ်ငွေ့များသည်လုပ်ကြံထုတ်လုပ်မှုဖြစ်စဉ်များ၏တိကျမှုနှင့်ထိရောက်မှုကိုသေချာစေရန်အရေးပါသောအခန်းကဏ် play မှပါ 0 င်သည်။ နည်းပညာတိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှ Semiconductor Ingroduction သည်ဓာတ်ငွေ့သန့်ရှင်းမှုနှင့်စီမံခန့်ခွဲမှုတိုးတက်မှုအတွက်တိုးတက်မှုအတွက်စဉ်ဆက်မပြတ်ကြိုးပမ်းနေသည်။