ခေတ်မီနည်းပညာဆိုင်ရာဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှု၏အဓိကအချက်မှာ Semiconductor Industry သည်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်တွင်မြင့်မားသောမြင့်မားသောနှင့်သန့်ရှင်းသောဓာတ်ငွေ့များပါ 0 င်သည်။ Semiconductors အတွက်အထူးဓာတ်ငွေ့များသည် Semiconductor ပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှု, ချစ်ပ်ထုတ်လုပ်ခြင်း, ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်, ဤဓာတ်ငွေ့များသည်ဆေးကြောခြင်း, တည်ငြိမ်မှုနှင့်တိကျသောထိန်းချုပ်မှုနှင့်တိကျသောထိန်းချုပ်မှုများအတွက်တင်းကျပ်သောလိုအပ်ချက်များကိုဖြည့်ဆည်းပေးရမည်။ ဤဆောင်းပါးသည် Sememiconductors တွင်အသုံးပြုသောဘုံအထူးပြုဓာတ်ငွေ့များကိုမိတ်ဆက်ပေးပြီး Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်တွင်သူတို့၏အခန်းကဏ်များကိုဆွေးနွေးပါမည်။

1. ဟိုက်ဒရိုဂျင် (H₂)

ဟိုက်ဒရိုဂျစ် အထူးသဖြင့်ဓာတုအခိုးအငွေ့ (CVD) နှင့်လျှော့ချရေးအတွက်အထူးသဖြင့်ဓာတုအခိုးအငွေ့ (CVD) တွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။ CVD တွင်ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည်ဆီလီကွန်ရုပ်ရှင်ကဲ့သို့သောပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များစိုက်ပျိုးရန်အခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့်မကြာခဏရောနှောလေ့ရှိသည်။ ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည်သတ္တုအစစ်ခံနှင့်အောက်ဆိုဒ်ဖယ်ရှားရေးလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်အေးဆေးအေးဂျင့်အဖြစ်ဆောင်ရွက်သည်။ ထို့အပြင်ဟိုက်ဒရိုဂျင်သည် Semiconductor Wafers များကိုသန့်ရှင်းရေးနှင့်ကုသရာတွင်အသုံးပြုသည်။

2. နိုက်ထရိုဂျင် (n₂)

နိုက်နိုဆေး၎င်းသည် Inert Gas ကိုအဓိကအားဖြင့် Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင်အောက်စီဂျင်အခမဲ့ပတ်ဝန်းကျင်ကိုအဓိကအားဖြင့်အသုံးပြုသည်။ ၎င်းကိုပစ္စည်းကိရိယာများသန့်ရှင်းရေး, အအေးခံခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များနှင့်တုံ့ပြန်မှုလေထုထဲတွင်အသည်းအသန်အဖြစ်အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။ အငွေ့စုဆောင်းခြင်းနှင့်စွဲမှုဖြစ်စဉ်များတွင်နိုက်ထရိုဂျင်သည်တုံ့ပြန်မှုအခြေအနေများကိုတည်ငြိမ်စေရန်နှင့်တုံ့ပြန်မှုနှုန်းကိုထိန်းချုပ်ရန်အခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့်ရောနှောလေ့ရှိသည်။ နိုက်ထရိုဂျင်သည်ဓာတ်တိုးများကိုနှိမ်နင်းရန်အထိခိုက်မခံပစ္စည်းများဓာတ်တိုးခြင်းမှကာကွယ်ခြင်းကိုကာကွယ်ရန်လည်းအသုံးပြုသည်။

3. အောက်စီဂျင် (o₂)

အောက်စီဂျင် အထူးသဖြင့်ဓာတ်တိုးခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များတွင် Semiconductor Industry တွင်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ ဆီလီကွန်ယက်များမျက်နှာပြင်ပေါ်ရှိဆီလီကွန်ဒိုင်အောက်ဆိုဒ်များကိုဖွဲ့စည်းခြင်းတွင်အောက်စီဂျင်သည်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။ လျှပ်စစ်စွမ်းဆောင်ရည်နှင့်စက်တည်ငြိမ်မှုအတွက်အလွန်အရေးကြီးသည့်ဆီလီကွန်မျက်နှာပြင်ရှိအောက်စီဂျင်အလွှာပုံစံများကိုမိတ်ဆက်ပေးခြင်းအားဖြင့်ဖြစ်သည်။ အောက်စီဂျင်များကိုလည်းသန့်ရှင်းရေးနှင့်စွဲလမ်းမှုလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်လည်းအသုံးပြုသည်။

4. ကာဗွန် Tetrafluoride (CF₄)

ကာဗွန် Tetrafluoride သည်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသည်။ Semiconductor etching တွင်CF₄သည်ဆီလီကွန်, ဆီလီကွန်နိုက်စပေါ့မှနစ်မြုပ်ဒြပ်စင်, သတ္တုနှင့်အခြားပစ္စည်းများနှင့်ထိရောက်စွာဖယ်ရှားရန်အခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့်ရောနှောထားသည်။ CF₄သည် fluorine နှင့်ပေါင်းစပ်သောအခါ၎င်းသည်ပြင်းထန်သောဓာတ်ပြုလှုပ်ရှားနိုင်သည့် fluorides ကိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။ ဤဓာတ်ငွေ့သည်ပေါင်းစပ်ထားသော circuit ထုတ်လုပ်မှုတွင်စွဲလမ်းမှုမြင့်မားသောပုံစံအတွက်အလွန်အရေးကြီးသည်။

5. ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက် (HCL)

ဟိုက်ဒရိုဂျင်ကလိုရိုက်ဓာတ်ငွေ့သည်အထူးသဖြင့်သတ္တုပစ္စည်းများစွဲစွဲမြဲမြဲဆိုင်ရာပစ္စည်းများကိုအထူးသဖြင့်ပေါင်းစပ်ထားသောဓာတ်ငွေ့အဖြစ်အဓိကအားဖြင့်အသုံးပြုသည်။ သတ္တုအလွှာများကိုဖယ်ရှားရန်သတ္တုရုပ်ရှင်များနှင့်ဓာတ်ပြုပြီးသတ္တုအလွှာများကိုဖယ်ရှားရန်ခွင့်ပြုသည်။ ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည်ပါးလွှာသောသတ္တုရုပ်ရှင်များကိုကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့် အသုံးပြု. ချစ်ပ်အဆောက်အ ဦ များတိကျမှန်ကန်မှုကိုသေချာစေသည်။

6. နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride (nf₃)

နိုက်ထရိုဂျင် trifluoride သည် Plasma etching ပစ္စည်းကိရိယာများတွင်ငွေစက္ကူများကိုအဓိကအားဖြင့်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်စွာသန့်ရှင်းရေးလုပ်လေ့ရှိသည်။ Plasma etching process များတွင်NF₃သည်အလွယ်တကူဖယ်ရှားနိုင်သောဖလိုရိုက်များဖြစ်ပေါ်စေရန် (ဥပမာ silicon fluorides ကဲ့သို့သော) ပစ္စည်းများကိုဓာတ်ပြုစုသည်။ ဤဓာတ်ငွေ့သည်သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်တွင်မြင့်မားသောအကျိုးရှိသည်။ ပစ္စည်းကိရိယာများကိုသန့်ရှင်းရေးပြုလုပ်ခြင်းနှင့်ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏တိကျမှန်ကန်မှုနှင့်ထိရောက်မှုကိုတိုးတက်စေရန်ကူညီသည်။

7. silane (sih₄)

Silane သည်အထူးသဖြင့်ဆီလီကွန်ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များကိုအပ်နှံရန်အတွက်ဓာတုအခိုးအငွေ့ (CVD) တွင်အသုံးပြုသောဓာတ်ငွေ့ဖြစ်သည်။ silances သည်အပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်ကိုဖြစ်ပေါ်စေရန်အပူချိန်မြင့်မားသောအပူချိန်ကိုဖြည့်ဆည်းပေးရန် Siliconductor ထုတ်လုပ်မှုတွင်အလွန်အရေးကြီးသည်။ ဘေးထွက်နှင့်တုံ့ပြန်မှုအခြေအနေများစီးဆင်းမှုကိုချိန်ညှိခြင်းအားဖြင့်အစစ်ခံမှုနှုန်းနှင့်ရုပ်ရှင်အရည်အသွေးကိုတိကျစွာထိန်းချုပ်နိုင်သည်။

8. Boron Trifluoride (BF₃)

Boron Trifluoride သည်အရေးကြီးသော doping သဘာဝဓာတ်ငွေ့ဖြစ်ပြီး, ၎င်းကိုနှစ်သက်သော doping layer ကိုဖွဲ့စည်းရန်ဆီလီကွန်အလွှာနှင့်တုံ့ပြန်ခြင်းအားဖြင့် Crystal ၏လျှပ်စစ်ဓာတ်အားဂုဏ်သတ္တိများကိုညှိရန်အသုံးပြုသည်။ P-type semiconductor ပစ္စည်းများဖန်တီးခြင်းအတွက် Boron Doping လုပ်ငန်းစဉ်သည်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။ BF₃သဘာဝဓာတ်ငွေ့သည်ဤလုပ်ငန်းစဉ်တွင်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။

9. ဆာလဖာ hexafluoride (sf₆)

sulfur hexafluoride အထူးသဖြင့်မြင့်မားသော - တိကျခိုင်မာသည့်အတွက်အထူးသဖြင့်အထူးသဖြင့်အထူးသဖြင့်အထူးသဖြင့်အထူးသဖြင့်အသုံးပြုသည်။ လျှပ်စစ်လျှပ်စစ်ခွဲဝေမှုဂုဏ်သတ္တိများနှင့်ဓာတုစွမ်းရည်မြင့်မားမှုကြောင့်SF₆သည်ပစ္စည်းရုပ်ရှင်များကိုတိကျစွာဖယ်ရှားရန်နှင့်တိကျသောပုံစံများကိုသေချာစေရန်အခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့်ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ ၎င်းသည်အိုင်းယွန်းခြင်းတွင်အင်းတွေးထားသည့်သတ္တုများကိုထိထိရောက်ရောက်ဖယ်ရှားခြင်းဖြင့်ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသည်။

ကောက်ချက်

Semiconductors အတွက်အထူးဓာတ်ငွေ့များသည်ပေါင်းစပ်ထားသော circuit များထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်အစားထိုးနိုင်သောအခန်းကဏ် play မှပါ 0 င်သည်။ နည်းပညာဆက်လက်ဖြစ်ပေါ်နေသည်မှာဤဓာတ်ငွေ့များ၏သန့်ရှင်းမှုနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်ပိုမိုမြင့်မားခြင်းနှင့်စွမ်းဆောင်ရည်များတိုးလာသည်။ အနာဂတ်တွင် Semiconductor Industry သည်လာမည့်မျိုးဆက်ချစ်ပ်များနှင့်နည်းပညာဆိုင်ရာဆန်းသစ်တီထွင်မှုများကိုထောက်ပံ့ရန်ဤအထူးဓာတ်ငွေ့များအပေါ်ဆက်လက်မှီခိုနေရသည်။ ထို့ကြောင့် Semiconductor Obses ကိုနားလည်သဘောပေါက်ခြင်းနှင့်အသုံးပြုခြင်းသည် Semiconductor Industry လုပ်ငန်း၏စဉ်ဆက်မပြတ်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုကိုမောင်းနှင်ရန်အလွန်အရေးကြီးသည်။