အမိုးနီးယား (Nh₃)အရေးကြီးသောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာဓါတ်ငွေ့ကုထုံးတစ်ခုအနေဖြင့်အမျိုးမျိုးသောစက်မှုလုပ်ငန်းများအကြားကျယ်ပြန့်သော applications များကျယ်ပြန့်စွာကျယ်ပြန့်စွာဖြင့် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်အဓိကကျသည်။ အမိုးနီးယားသည်နိုက်ထနိုင်နဒရမ်းဒရိတ်, အိုင်းထပ်တိုးခြင်းနှင့် doping, ဤဆောင်းပါးသည် Semiconductor Indepool တွင်အမိုးနီးယားနိုင်ငံ၏လျှောက်လွှာများကိုဖြည့်ဆည်းပေးပြီးစက်စွမ်းဆိုင်ရာစွမ်းဆောင်ရည်နှင့်ကုန်ကျစရိတ်များကိုလျှော့ချခြင်းနှင့်ကားမောင်းခြင်းလုပ်ငန်းဆန်းသစ်တီထွင်မှုကိုတိုးမြှင့်ခြင်းတွင်အရေးပါသောအခန်းကဏ် on ကိုဆန်းစစ်လေ့လာပါမည်။

1 ။ အခြေခံဂုဏ်သတ္တိများနှင့်အမိုးနီးယား၏ဓာတုအပြုအမူ

အမိုးနီးယားသည်နိုက်ထရိုဂျင်နှင့်ဟိုက်ဒရိုဂျင်ဖြင့်ဖွဲ့စည်းထားသောဒြပ်ပေါင်းတစ်မျိုးဖြစ်ပြီး၎င်း၏ခိုင်မာသော alkalinity အတွက်လူသိများသော, အမိုးနီးယားသည်အခန်းအပူချိန်တွင်ဓာတ်ငွေ့အဖြစ်ရှိနေသော်လည်းအပူချိန်နိမ့်ကျသောဓာတ်ငွေ့အရင်းအမြစ်ဖြစ်စေနိုင်သည်။ Sememonductor Industry တွင်အမိုးနီးယားဓာတုဗေဒဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများသည်အထူးသဖြင့်ဓာတုအခိုးအငြာ (CVD), အိုင်းယွန်းများ,

အမိုးနီးယားမော်လီကျူးများသည်သတ္တုများ, ဆီလီကွန်နှင့်အခြားပစ္စည်းများနှင့်ဓာတ်ပြုနိုင်သည်။ ဤတုံ့ပြန်မှုများသည်လိုချင်သောပါးလွှာသောရုပ်ရှင်ကားများကိုဖွဲ့စည်းရာတွင်သာမကပစ္စည်းများ၏လျှပ်စစ်, အပူနှင့်စက်မှုဆိုင်ရာဂုဏ်သတ္တိများကိုတိုးတက်စေရန်အတွက်အထောက်အကူပြုသည့်လျှပ်စစ်, အပူနှင့်စက်မှုဂုဏ်သတ္တိများကိုလည်းတိုးတက်စေပြီး,

2 ။ Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုအတွက်အမိုးနီးယား၏လျှောက်လွှာများ

အထူးသဖြင့်အောက်ပါကဏ် in များတွင်အမိုးနီးယားသည်အထူးသဖြင့်အောက်ပါကဏ် in များတွင်အရေးပါသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။

Nitride ပါးလွှာသောရုပ်ရှင်များ 2.1

ခေတ်မီ Semiconductor ထုတ်လုပ်ခြင်းတွင်ဆီသမီနိုင်းဖိုက်ခြင်းကဲ့သို့သောနိုက်စီယမ်နိုနိုကူး (Si₃n₄), Aluminum Nitride (Aln) နှင့် Tnitium Nitride (Tin Nitride (TIN) အဖြစ်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုသည်။ ဤနိုက်ထရစ်ရုပ်ရှင်များကိုအစစ်ခံစဉ်အတွင်းအမိုးနီးယားသည်အရေးပါသောနိုက်ထရိုဂျင်ရင်းမြစ်အဖြစ်ဆောင်ရွက်သည်။

ဓာတုအငွေ့အခိုးအငွေ့ (CVD) သည် Nitride ရုပ်ရှင်အစစ်ခံများအတွက်အသုံးအများဆုံးနည်းလမ်းများအနက်မှတစ်ခုဖြစ်သည်။ ဇဝက်သာ silanon nitride ရုပ်ရှင်ကားများပြိုကွဲရန်မြင့်မားသောအပူချိန်မြင့်မားသောကြောင့် silane (sih₄) ကဲ့သို့သောဓာတ်ငွေ့များနှင့်ဓာတ်ပြုခြင်းသည်ဓာတ်ငွေ့များနှင့်ဓာတ်ပြုခြင်း။ တုံ့ပြန်မှုမှာအောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည် -

3sih4 + 4NH3 → Si3n4 + 12H2

ဤလုပ်ငန်းစဉ်သည်ဆီလီကွန် Wafer မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင်ယူနီဖောင်းမိလီကွန်နိုင်းနိုင်းနိုက်နိုင်းနိုငျ့စ်၏ဖွဲ့စည်းမှုကိုဖြစ်ပေါ်စေသည်။ အမိုးနီးယားသည်တည်ငြိမ်သောနိုက်ထရိုဂျင်ရင်းမြစ်တစ်ခုဖြစ်ပြီးတိကျသောအခြေအနေများအောက်တွင်ရှိသောအခြားဓာတ်ငွေ့ရင်းမြစ်များနှင့်တုံ့ပြန်မှုကိုတိကျသောထိန်းချုပ်မှုကိုခွင့်ပြုသည်။

Nitride Films များသည်အလွန်ကောင်းမွန်သောတည်ငြိမ်သောတည်ငြိမ်တည်ငြိမ်မှု, လျှပ်စစ်ပစ္စည်းများနှင့်ဓါတ်တိုးခြင်းခံနိုင်ရည်ရှိခြင်း, ၎င်းတို့ကိုပေါင်းစပ်ထားသော circuits (ICS) တွင် insulation layers များ, လျှပ်ကူးပစ္စည်း ololeation layers များနှင့် optoelelectronic devices များတွင် optical windows များကဲ့သို့ပေါင်းစပ်ထားသော circuits (IS) တွင်ကျယ်ပြန့်စွာအသုံးပြုကြသည်။

2.2 ion implantation နှင့် doping

ဇဝက်သာ Semiconductor ပစ္စည်းများ၏ doping လုပ်ငန်းစဉ်တွင်လည်းအရေးကြီးသောအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ Doping သည် semiconductor device များထုတ်လုပ်သည့်ပစ္စည်းများ၏လျှပ်စစ်စီးဆင်းမှုကိုထိန်းချုပ်ရန်အသုံးပြုသောအရေးကြီးသောနည်းစနစ်ဖြစ်သည်။ အမိုးနီးယားကိုထိရောက်သောနိုက်ထရိုဂျင်ရင်းမြစ်တစ်ခုအနေဖြင့် (ဖော့စဖိတ် PHOSH နှင့် Diboro B₂h₆) တွင်အခြားဓာတ်ငွေ့များ (ဖော့စဖိတ်Ph₃နှင့် Gallium Arsenide (GAAS) မှ ion implantation ကဲ့သို့သောပစ္စည်းများထဲသို့အခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့် တွဲဖက်. အသုံးပြုလေ့ရှိသည်။

ဥပမာအားဖြင့်နိုက်ထရိုဂျင် Doping သည် silicon ၏လျှပ်စစ်ဓာတ်သတ္တိများကို n-type သို့မဟုတ် p-type semiconductors များကိုဖန်တီးရန်ညှိနိုင်သည်။ ထိရောက်သောနိုက်ထရိုဂျင် doping လုပ်ငန်းစဉ်များတွင်အမိုးနီးယားသည်သန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောနိုက်ထရိုဂျင်ရင်းမြစ်တစ်ခုဖြစ်ပြီး doping အာရုံစူးစိုက်မှုများကိုတိကျသောထိန်းချုပ်မှုကိုသေချာစေသည်။ ၎င်းသည်အကြီးစားပေါင်းစည်းမှု (VLSI) ထုတ်လုပ်မှုတွင်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မားသောထုတ်ကုန်များထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့်ထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်အဓိကအားဖြင့်အရေးပါသည်။

2.3 သန့်ရှင်းရေးနှင့် etting

Sememonductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်စက်ပစ္စည်းများ၏မျက်နှာပြင်အရည်အသွေးကိုသေချာစေရန်သန့်ရှင်းခြင်းနှင့်စွဲခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များသည်သော့ဖြစ်သည်။ အထူးသဖြင့် Plasma etching နှင့်ဓာတုသန့်ရှင်းရေးတွင်အမိုးနီးယားကိုဤလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုသည်။

Plasma etching တွင်အမိုးနီးယားတွင်အော်ဂဲနစ်ညစ်ညမ်းမှုများ, အောက်ဆိုဒ်များနှင့်လျှပ်စစ်ဓာတ်အားမျက်နှာပြင်မှသတ္တုအညစ်အကြေးများကိုဖယ်ရှားပေးရန်အတွက်အမိုးနီးယားကိုအခြားဓာတ်ငွေ့များနှင့်ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။ ဥပမာအားဖြင့်, အမိုးနီးယားသည်မျက်နှာပြင်အောက်ဆိုဒ်များကိုထိထိရောက်ရောက်ဖယ်ရှားခြင်းနှင့်နောက်ဆက်တွဲလုပ်ငန်းစဉ်များတွင်တည်ငြိမ်မှုကိုသေချာစေရန်အတွက်အမိုးနီးယားသည်အောက်စီဂျင်မျိုးစိတ်များကိုထုတ်လုပ်ရန်အောက်စီဂျင်နှင့်ဓာတ်ပြုပြီးဓါတ်ကိုဓါတ်ယူသည်။

ထို့အပြင်အမိုးနီးယားသည်သန့်ရှင်းရေးလုပ်ထုံးလုပ်နည်းများကိုသန့်ရှင်းရေးပြုလုပ်နိုင်သည့်လုပ်ငန်းစဉ်များအဖြစ်ဆောင်ရွက်နိုင်ပြီးဓာတုဗေဒဆိုင်ရာတုံ့ပြန်မှုများသို့မဟုတ် mishaps များဖြစ်စဉ်ကြောင့်ဖွဲ့စည်းထားသည့်သဲလွန်စများကိုဖယ်ရှားရန်ကူညီပေးနိုင်သည်။

3 ။ Semiconductor Industry တွင်အမိုးနီးယား၏အားသာချက်များ

အထူးသဖြင့်အောက်ပါကဏ် in များတွင်အထူးသဖြင့်အောက်ပါကဏ် in များတွင်အားသာချက်များကိုအမိုးနီးယားသည်အားသာချက်များကိုအားသာချက်များစွာရှိသည်။

3.1 ထိရောက်သောနိုက်ထရိုဂျင်အရင်းအမြစ်

အမိုးနီးယားသည်စွမ်းဆောင်ရည်မြင့်မြတ်ပြီးသန့်ရှင်းစင်ကြယ်သောနိုက်ထရိုဂျင်သည်နိုက်ထရိုဂျင်ရုပ်ရှင်များနှင့် doping ဖြစ်စဉ်များအတွက်တည်ငြိမ်သောနိုက်ထရိုဂျင်အက်တမ်များကိုတည်ငြိမ်စေပြီးတိကျသောနိုက်ထရိုဂျင်အက်တမ်များကိုထောက်ပံ့ပေးသည်။ Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင် micro နှင့် nano-scale devices ၏လုပ်ကြံများထုတ်လုပ်ခြင်းအတွက်အလွန်အရေးကြီးသည်။ ဖြစ်ရပ်များစွာတွင်အမိုးနီးယားသည်အခြားနိုက်ထရိုဂျင်ဓာတ်ငွေ့သို့မဟုတ်နိုက်ထရိုဂျင်အောက်ဆိုဒ်များကဲ့သို့အခြားနိုက်ထရိုဂျင်ဓာတ်ငွေ့သို့မဟုတ်နိုက်ထရိုဂျင်အောက်ဆိုဒ်များကဲ့သို့ပိုမိုဆိုးရှားနိုင်သည်။

3.2 အလွန်အစွမ်းထက်တဲ့ဖြစ်စဉ်ကိုထိန်းချုပ်မှု

အမိုးနီးယား၏ဓာတ်ပြုမှုသည်၎င်းကိုရှုပ်ထွေးသောလုပ်ငန်းစဉ်အမျိုးမျိုးတွင်တုန့်ပြန်မှုနှုန်းနှင့်ရုပ်ရှင်အထူများကိုထိန်းချုပ်ရန်ခွင့်ပြုသည်။ အမိုးနီးယား, အပူချိန်နှင့်တုံ့ပြန်မှုအချိန်များစီးဆင်းမှုနှုန်းကိုညှိခြင်းအားဖြင့်၎င်းသည်အထူ, တူညီမှုနှင့်ရုပ်ရှင်၏ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံဆိုင်ရာလက္ခဏာများကိုတိကျစွာထိန်းချုပ်နိုင်ပြီးထုတ်ကုန်များ၏စွမ်းဆောင်ရည်ကိုပိုကောင်းအောင်လုပ်နိုင်နိုင်သည်။

3.3 ကုန်ကျစရိတ် - ထိရောက်မှုနှင့်သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာဖော်ရွေမှု

အခြားနိုက်ထရိုဂျင်ရင်းမြစ်ဓာတ်ငွေ့များနှင့်နှိုင်းယှဉ်လျှင်အမိုးနီးယားသည်ကုန်ကျစရိတ်နည်းပါးပြီးနိုက်ထရိုဂျင်အသုံးချမှုထိရောက်မှုရှိသည်။ ထို့အပြင်အမိုးနီးယားပြန်လည်အသုံးပြုခြင်းနှင့်နည်းပညာများပြန်လည်အသုံးပြုခြင်းတို့သည်ပိုမိုအဆင့်မြင့်လာပြီးပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာဖော်ရွေမှုကိုအထောက်အကူပြုသည်။

4 ။ လုံခြုံမှုနှင့်သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာစိန်ခေါ်မှုများ

Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်သိသာသောအခန်းကဏ် into မှပါ 0 င်သော်လည်းအမိုးနီးယားသည်အလားအလာရှိသောအန္တရာယ်များကိုတင်ပြသည်။ အခန်းအပူချိန်တွင်အမိုးနီးယားသည်ဓာတ်ငွေ့ဖြစ်ပြီးအရည်ပုံစံဖြင့်၎င်းသည်အထူးသဖြင့်လောင်ကျွမ်းစေသောနှင့်အဆိပ်အတောက်ဖြစ်စေသောအဆိပ်အတောက်ဖြစ်စေသည်။

1. သိုလှောင်ခြင်းနှင့်သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးဖြေ - အမိုးနီးယားကိုအပူချိန်နိမ့်ခြင်းနှင့်ဖိအားပေးမှုများဖြင့်သိုလှောင်ထားရမည်။
2. စစ်ဆင်ရေးဘေးကင်းလုံခြုံမှု- Semiconductor ထုတ်လုပ်မှုလိုင်းရှိအော်ပရေတာများသည်လူ့ခန္ဓာကိုယ်နှင့်အမာရွတ်များကိုကာကွယ်ရန်လက်ငင်းများ, လက်အိတ်နှင့်သဘာဝဓာတ်ငွေ့မျက်နှာဖုံးများကဲ့သို့သောအကာအကွယ်ပစ္စည်းများကိုဝတ်ဆင်ရန်လိုအပ်သည်။
3. စွန့်ပစ်ပစ္စည်းကုသမှုဖြေ - အမိုးနီးယားကိုအသုံးပြုခြင်းဟာအန္တရာယ်ရှိတဲ့စွန့်ပစ်ပစ္စည်းတွေထုတ်လုပ်နိုင်တယ်။

Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုလုပ်ငန်းစဉ်များသည်ဆက်လက်တိုးတက်နေသဖြင့်ပိုမိုမြင့်မားသောစက်စွမ်းဆောင်ရည်များ 0 ယ်လိုအားတိုးလာသည်နှင့်အမျှအမိုးနီးယားနိုင်ငံ၏ကဏ် role သည် ဆက်လက်. ကြီးထွားလာလိမ့်မည်။ အထူးသဖြင့် Pulanision High-nano-scale ပေါင်းစပ်ထားသော circuits, Quantum Computing Chips နှင့်အဆင့်မြင့်ထုပ်ပိုးသည့်နည်းပညာများတွင်အထူးသဖြင့်မှန်ကန်သည်။ ထို့အပြင်သဘာဝပတ်ဝန်းကျင်ဆိုင်ရာစည်းမျဉ်းများပိုမိုတင်းကျပ်လာသည့်အနေဖြင့်, အမိုးနီးယားအတွက်အစိမ်းရောင်ထုတ်လုပ်မှုနှင့်ပြန်လည်အသုံးချခြင်းနည်းပညာများဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုသည်စက်မှုလုပ်ငန်း၏အနာဂတ်အတွက်အရေးပါသောအချက်ဖြစ်လာလိမ့်မည်။

Sememonductor Industry တွင် Ammonia ၏ application များသည်ခေတ်မီအီလက်ထရွန်းနစ်ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုအတွက်ခိုင်မာသောအုတ်မြစ်ဖြစ်သည်။ ထုတ်လုပ်မှုထိရောက်မှုကိုတိုးတက်အောင်လုပ်ခြင်း, ကုန်ထုတ်လုပ်မှုကုန်ကျစရိတ်ကိုလျှော့ချခြင်းနှင့်ကားမောင်းခြင်းနည်းပညာဆန်းသစ်တီထွင်မှုသည်မရှိမဖြစ်လိုအပ်သည်။ နည်းပညာတိုးတက်လာသည်နှင့်အမျှအမ်တိုယာနိုင်ငံ၏လျှောက်လွှာသည်ဆက်လက်တိုးချဲ့သွားမည်,

ဇဝက်သာမရှိမဖြစ်လိုအပ်သောဓာတုဗေဒဆိုင်ရာဓါတ်ငွေ့ကုထုံးတစ်ခုအနေဖြင့် Semiconductor ကုန်ထုတ်လုပ်မှုတွင်အဓိကအခန်းကဏ် plays မှပါ 0 င်သည်။ Nitride ရုပ်ရှင်များ, doping နှင့်သန့်ရှင်းရေး / စွဲမှုဖြစ်စဉ်များ၏အစစ်ခံများအတွက်အရေးပါသည်။ Semiconductor Technology ၏ဆက်လက်တိုးတက်မှုများဖြင့်အမိုးနီးယား၏လျှောက်လွှာများသည်ကြီးထွားလာပြီးနည်းပညာတိုးတက်မှုများသို့သိသာထင်ရှားသည့်ပံ့ပိုးမှုများချမှတ်ခြင်းနှင့် Semiconductor Ingroughing ကိုပိုမိုထိရောက်သောသဘာဝပတ်ဝန်းကျင်နှင့်သဘာ 0 ပတ် 0 န်းကျင်ဆိုင်ရာသဟဇာတဖြစ်သော ဦး ဆောင်မှုကိုကူညီခြင်း။