Imepụta Semiconductor na-adabere n'ụdị gas dị iche iche, nke enwere ike kewaa n'ime isi atọ: nnukwu gas, ọpụrụiche gas, na etching gas. Gasị ndị a ga-abụrịrị ịdị ọcha nke ukwuu iji gbochie mmetọ, nke nwere ike imebi usoro nrụpụta siri ike ma dị mgbagwoju anya.

Nnukwu gas

Nitrogen (N₂):

Ọrụ: N₂ na-eje ozi ọtụtụ ebumnuche, gụnyere imecha ụlọ ọrụ na inye ikuku inert n'oge ọkwa dị iche iche nke nrụpụta semiconductor.
Ihe ndetu agbakwunyere: Nitrogen na-arụkarị ọrụ na mbugharị na nchekwa nke wafer silicon iji belata oxidation. Ọdịdị inert ya na-eme ka ọ ghara imeghachi omume na ihe ndị ọzọ, na-eme ka ọ dị mma maka ịnọgide na-enwe ebe nhazi dị ọcha.

Argon (Ar):
Ọrụ: Na mgbakwunye na itinye aka na usoro plasma, argon na-enyere aka na usoro ebe ihe mejupụtara gas na-achịkwa dị oke mkpa.
Ihe ndetu ndị ọzọ: Ebe ọ bụ na ọ naghị emeghachi omume na ọtụtụ ihe, a na-ejikwa argon maka sputtering, nke na-enyere aka n'ịkwado ígwè ma ọ bụ ihe nkiri dielectric ebe a ga-edobe elu n'enweghị mmetọ.

Helium (Ọ):
Ọrụ: Ngwongwo ọkụ nke Helium na-eme ka ọ baa uru maka ime ka ọ dị jụụ na ịnọgide na-enwe ọnọdụ okpomọkụ n'oge usoro mmeghachi omume.
Ihe ndetu agbakwunyere: A na-ejikarị ya na sistemụ laser nwere ike dị elu maka lithography n'ihi ọdịdị na-adịghị arụ ọrụ yana ikike idowe ụzọ anya anya na-enweghị mmetọ.

Hydrogen (H₂):
Ọrụ: E wezụga ngwa ya na mgbakasị ahụ, hydrogen na-enyekwa aka ihicha elu nke wafer ma nwee ike itinye aka na mmeghachi omume kemịkal n'oge epitaxy.
Ihe ndetu agbakwunyere: Iji hydrogen na ntinye nke ihe nkiri ndị dị mkpa na-enye ohere ijikwa ikike dị ukwuu na ntinye ihe na-ebu ibu na ihe semiconductor, na-agbanwe akụrụngwa eletrik ha nke ọma.

Ọpụrụiche Gases na Dopants

Silane (SiH₄):
Ọrụ: Ewezuga ịbụ ihe mmalite maka ntinye silicon, silane nwere ike ime ka ọ bụrụ ihe nkiri na-agafe agafe nke na-emezi njirimara eletrọnịkị.
Ihe ndetu agbakwunyere: Mmeghachi omume ya chọrọ ijikwa nke ọma n'ihi nchegbu nchekwa, ọkachasị mgbe agwakọtara ya na ikuku ma ọ bụ oxygen.

Amonia (NH₃):
Ọrụ: Na mgbakwunye na imepụta fim nitride, amonia dị ịrịba ama n'imepụta ọkwa ngafe na-eme ka ntụkwasị obi nke ngwaọrụ semiconductor dịkwuo elu.
Ihe ndetu agbakwunyere: Ọ nwere ike itinye aka na usoro chọrọ ntinye nitrogen n'ime silicon, na-emeziwanye akụrụngwa elektrọnik.

Phosphine (PH₃), Arsine (AsH₃), na Diborane (B₂H₆):
Ọrụ: Ọ bụghị naanị na gas ndị a dị mkpa maka doping mana ọ dịkwa oke mkpa maka inweta akụrụngwa eletrik achọrọ na ngwaọrụ semiconductor dị elu.
Ihe ndetu agbakwunyere: Nsi ha na-achọrọ ụkpụrụ nchekwa siri ike yana nyochaa sistemụ na gburugburu ebe a na-emepụta ihe iji belata ihe egwu.

Gas na-ehicha ma na-ehicha ya

Fluorocarbons (CF₄, SF₆):
Ọrụ: A na-eji gas ndị a arụ ọrụ na usoro etching akọrọ, nke na-enye oke nkenke ma e jiri ya tụnyere ụzọ etching mmiri.
Ihe ndetu agbakwunyere: CF₄ na SF₆ dị ịrịba ama n'ihi ikike ha na-etch ihe ndị dabeere na silicon nke ọma, na-enye ohere maka mkpebi dị mma dị oke mkpa na microelectronics ọgbara ọhụrụ.

Chlorine (Cl₂) na Hydrogen Fluoride (HF):
Ọrụ: Chlorine na-enye ike etching ike, ọkachasị maka ọla, ebe HF dị oke mkpa maka iwepụ silicon dioxide.
Ihe ndetu ndị ọzọ: Nchikota nke gas ndị a na-enye ohere iwepụ oyi akwa dị irè n'oge usoro mmepụta dị iche iche, na-eme ka ebe dị ọcha dị ọcha maka usoro nhazi na-esote.

Nitrogen Trifluoride (NF₃):
Ọrụ: NF₃ bụ ihe dị mkpa maka ihicha gburugburu ebe obibi na sistemụ CVD, na-azaghachi na mmetọ iji nọgide na-arụ ọrụ kacha mma.
Ihe ndetu ndị ọzọ: N'agbanyeghị nchegbu banyere ikike ikuku griin ha, arụmọrụ NF₃ na ihicha na-eme ka ọ bụrụ nhọrọ kachasị mma n'ọtụtụ ụlọ ọrụ, n'agbanyeghị na ojiji ya chọrọ nlezianya gburugburu ebe obibi.

Oxygen (O₂):
Ọrụ: Usoro oxidation nke ikuku oxygen na-akwado nwere ike ịmepụta akwa mkpuchi dị mkpa n'ime ụlọ semiconductor.
Ihe ndetu agbakwunyere: Ọrụ oxygen n'ịkwalite oxidation nke silicon iji mepụta akwa SiO₂ dị oke mkpa maka ikewapụ na nchekwa nke ihe sekit.

Gases na-apụta na nrụpụta Semiconductor

Na mgbakwunye na gas ọdịnala ndị edepụtara n'elu, gas ndị ọzọ na-enweta nlebara anya na usoro nrụpụta semiconductor, gụnyere:

Carbon dioxide (CO ₂): Ejiri ya na ngwa ihicha na etching, ọkachasị ndị metụtara ihe ndị dị elu.

Silicon dioxide (SiO₂): Ọ bụ ezie na ọ bụghị gas n'okpuru ọnọdụ ọkọlọtọ, a na-eji ụdị silicon dioxide vaporized na usoro ntinye ego ụfọdụ.

Ihe gbasara gburugburu ebe obibi

Ụlọ ọrụ semiconductor na-elekwasị anya na ibelata mmetụta gburugburu ebe obibi jikọtara ya na iji gas dị iche iche eme ihe, karịsịa ndị nwere ike ikuku griin haus. Nke a emeela ka mmepe nke usoro nlekọta gas dị elu na nyocha nke gas ndị ọzọ nwere ike inye uru yiri nke ahụ na obere akara gburugburu ebe obibi.

Mmechi

Gasị ndị a na-eji na-emepụta semiconductor na-arụ ọrụ dị oke mkpa n'ịhụ na nkenke na arụmọrụ nke usoro mmepụta ihe. Ka teknụzụ na-aga n'ihu, ụlọ ọrụ semiconductor na-agbasi mbọ ike maka imeziwanye ịdị ọcha na njikwa gas, ma na-ekwukwa maka nchekwa na gburugburu ebe obibi metụtara ojiji ha.