Ang paghimo sa semiconductor nga pagsalig nagsalig sa usa ka lainlaing matang sa mga gas, nga mahimong iklasipikar sa tulo nga mga nag-unang mga tipo: Daghang gas, Mga Specialty Gases, ug mga gas nga etching. Kini nga mga gas kinahanglan nga labi ka hataas nga kaputli aron malikayan ang kontaminasyon, nga makadaot sa mga delikado ug komplikado nga proseso sa pagtapik.

Daghang gas

Nitrogen (N₂):

Papel: N₂ nagsilbi daghang mga katuyoan, lakip ang pagpahinlo sa mga proseso sa pagproseso ug paghatag usa ka dili maayo nga kahimtang sa lainlaing mga yugto sa paghimo sa semiconductor nga paghimo sa semiconductor.
Dugang nga mga nota: Ang nitroheno kanunay nga gigamit sa transportasyon ug pagtipig sa mga silicon wafers aron maibanan ang oksihenasyon. Gisiguro sa dili maayo nga kinaiyahan nga kini dili molihok sa uban nga mga materyal, nga naghimo niini nga sulundon alang sa pagpadayon sa limpyo nga mga palibot sa pagproseso.

ARGON (AR):
Papel: Gawas sa pag-apil niini sa mga proseso sa plasma, ang Argon nakatabang sa mga proseso diin hinungdanon ang mga kontrolado nga gas nga mga komposisyon sa gas.
Dugang nga mga nota: Tungod kay kini dili molihok uban sa kadaghanan nga mga materyales, ang Argon gigamit usab alang sa pagdakup, nga makatabang sa pagdeposito sa metal o dielectric nga mga pelikula diin kinahanglan ipadayon ang mga ibabaw nga wala'y kontaminasyon.

Helium (siya):
Papel: Ang thermal nga mga kabtangan sa helium naghimo nga kini hinungdanon alang sa pagpabugnaw ug pagpadayon sa pagkamakanunayon sa temperatura sa panahon sa reaktibo nga mga proseso.
Dugang nga mga nota: Kini kanunay nga gigamit sa mga high-energy laser systems alang sa lithography tungod sa dili aktibo nga kinaiya nga magpadayon sa kontaminasyon.

Hydrogen (H₂):
Papel: Labaw sa aplikasyon niini sa pag-antus, ang hydrogen nagtabang usab sa paglimpyo sa nawong sa mga wafers ug mahimong maapil sa mga reaksiyon sa kemikal sa panahon sa Epitaxy.
Dugang nga mga nota: Ang paggamit sa hydrogen sa pagpalagpot sa mga manipis nga pelikula nagtugot alang sa labi ka kontrol sa mga materyal nga carrier sa mga materyal sa semiconductor.

Mga gas sa espesyalidad ug mga dopant

Silane (Sih₄):
Papel: gawas sa pagkahimong usa ka nag-una alang sa pagdakup sa silikon, ang Silane mahimong polymerized sa usa ka pag-uswag nga pelikula nga nagpauswag sa mga kinaiya sa elektronik.
Dugang nga mga nota: Ang reaktibo niini nanginahanglan pag-ayo sa pagdumala tungod sa mga kabalaka sa kaluwasan, labi na kung gisagol sa hangin o oxygen.

Ammonia (NH₃):
Papel: Gawas sa paghimo sa mga nitride films, ang ammonia hinungdanon sa paghimo og mga layer sa Passivation nga nagpalambo sa kasaligan sa mga aparato sa semiconductor.
Dugang nga mga nota: Mahimo kini nga maapil sa mga proseso nga nanginahanglan nga nitroheno nga pag-apil sa silikon, pagpaayo sa electronic prodticiic.

Phosphine (Ph₃), Arsine (Ash₃), ug Diborane (B₂h₆):
Papel: Kini nga mga gas dili lamang hinungdanon alang sa pag-doping apan kritikal usab alang sa pagkab-ot sa gitinguha nga mga kabtangan sa elektrikal sa mga advanced nga mga aparato sa semiconductor.
Dugang nga mga Tala: Ang ilang pagkasuko nanginahanglan mga higpit nga mga protocol sa seguridad ug mga sistema sa pag-monitor sa mga palibot sa fabrication aron mapagaan ang mga peligro.

Etching ug paglimpiyo sa mga gas

Fluorocarbons (CF₄, SF₆):
Papel: Kini nga mga gas gigamit sa uga nga mga proseso sa etching, nga naghatag taas nga katukma kung itandi sa basa nga mga pamaagi sa pag-etching.
Dugang nga mga nota: Ang CF₄ ug SF₆ hinungdanon tungod sa ilang kaarang sa pag-ayo sa mga materyales nga nakabase sa silikon, nga nagtugot alang sa maayong resolusyon sa sumbanan sa mga modernong microelectronics.

Chlorine (cl₂) ug hydrogen fluoride (HF):
Papel: Ang Chlorine naghatag agresibo nga mga kapabilidad sa pag-etching, labi na sa mga metal, samtang ang HF hinungdanon alang sa pagtangtang sa silikon sa silikon.
Dugang nga mga nota: Ang kombinasyon sa kini nga mga gas nagtugot alang sa epektibo nga pagtangtang sa layer sa lainlaing mga yugto sa pag-ayo alang sa mga lakang nga limpyo alang sa sunod nga mga lakang sa pagproseso.

Nitrogen trifluoride (NF₃):
Papel: Ang NF₃ hinungdanon alang sa paglimpiyo sa kalikopan sa mga sistema sa CVD, pagtubag sa mga kontaminado aron mapadayon ang kamalaumon nga pasundayag.
Dugang nga mga nota: Bisan pa sa mga kabalaka bahin sa potensyal sa gasolina sa Greenhouse, ang pagkaayo sa NF₃ sa paghinlo naghimo niini nga usa ka pinalabi nga pagpili sa daghang mga pabrika, bisan kung ang paggamit sa paglibut sa kalikopan.

Oxygen (O₂):
Papel: Ang mga proseso sa oksihenasyon nga gipadali sa oxygen mahimo'g makamugna hinungdanon nga mga sulud nga sulud sa mga istruktura sa semiconductor.
Dugang nga mga nota: Ang Papel sa Oxygen sa pagpalambo sa oksihenasyon sa Silicon aron maporma ang mga layer sa Sio₂ kritikal alang sa pagkalainlain ug pagpanalipod sa mga sangkap sa sirkito.

Ang mga nag-uswag nga gas sa paghimo sa semiconductor

Gawas sa mga tradisyonal nga gas nga gilista sa ibabaw, ang uban nga mga gas nakakuha og atensyon sa proseso sa paghimo sa semiconductuctor nga gihimo, lakip ang:

Carbon Dioxide (Co₂): Gigamit sa pipila nga mga aplikasyon sa paglimpyo ug pag-aghat, labi na sa mga nag-apil sa mga advanced nga materyales.

Silicon Dioxide (Sio₂): Bisan kung dili usa ka gas sa ilawom sa standard nga mga kondisyon, ang mga vaporized nga porma sa silikon nga dioxide gigamit sa pipila nga mga proseso sa pagpuo.

Mga konsiderasyon sa kalikopan

Ang industriya sa semiconductor nagkadaghan nga nakapunting sa pagkunhod sa epekto sa kalikopan nga may kalabutan sa paggamit sa lainlaing mga gas, labi na kadtong adunay mga gas nga greenhouse. Kini ang hinungdan sa pag-uswag sa mga advanced nga sistema sa pagdumala sa gas ug pagsuhid sa mga alternatibong gas nga makahatag sa susama nga mga benepisyo sa usa ka mas ubos nga kalikopan nga tunob sa kalikopan.

Kataposan

Ang mga gas nga gigamit sa paghimo sa semiconductor nga paghimo og usa ka kritikal nga papel sa pagsiguro sa katukma ug pagkaayo sa mga proseso sa pag-ayo. Sa pag-uswag sa teknolohiya, ang industriya sa semiconductor padayon nga naningkamot alang sa mga pag-uswag sa kaputli sa gas ug pagdumala, samtang nagtubag usab sa mga kabalaka sa kaluwasan ug kalikopan nga may kalabutan sa ilang paggamit.