Uz brzi napredak tehnologije, razvoj novih proizvodnih snaga i promicanje visokokvalitetnog razvoja postali su ključni fokusi nacionalnog rasta. U najsavremenijim oblastima kao što su čipovi, displeji, fotonaponski uređaji i materijali za baterije, silan igra ključnu ulogu kao ključna sirovina. Trenutno, samo nekoliko zemalja širom svijeta može samostalno proizvoditi silan plin elektronskog kvaliteta.

HuaZhong Gas koristi napredni proces disproporcionalnosti u industriji da proizvode silan gas elektronskog kvaliteta. Ovaj proces ne samo da održava čistoću i proizvodni kapacitet, već i smanjuje uticaj na životnu sredinu, ispunjavajući posvećenost kompanije zelenom i održivom razvoju.

Proces disproporcionisanja odnosi se na hemijsku industrijsku reakciju u kojoj elementi u srednjem oksidacionom stanju istovremeno prolaze kroz oksidaciju i redukciju, stvarajući dva ili više različitih proizvoda sa različitim oksidacionim stanjima. Disproporcija hlorosilana je niz reakcija koje koriste hlorosilane za proizvodnju silana.

Prvo, silicijum u prahu, vodik i silicijum tetrahlorid reaguju da bi formirali trihlorosilan:
Si + 2H2 + 3SiCl4 → 4SiHCl3.

Zatim, triklorosilan se podvrgava disproporcionalnosti da bi se dobio diklorosilan i silicijum tetrahlorid:
2SiHCl3 → SiH2Cl2 + SiCl4.

Diklorosilan se zatim podvrgava daljnjoj disproporciji kako bi se formirao triklorosilan i monohidrosilan:
2SiH2Cl2 → SiH3Cl + SiHCl3.

Konačno, monohidrosilan se podvrgava disproporcionalnosti kako bi se dobio silan i diklorosilan:
2SiH3Cl → SiH2Cl2 + SiH4.

HuaZhong Gas integriše ove procese, stvarajući proizvodni sistem zatvorene petlje. Ovo ne samo da smanjuje otpad, već i povećava stopu iskorišćenja sirovina, efektivno snižavajući troškove proizvodnje i uticaj na životnu sredinu.

U budućnosti, HuaZhong Gas će nastaviti da optimizuje parametre reakcije i obezbeđuje visokokvalitetni elektronski silan gas podržati napredak industrijskog razvoja i doprinijeti visokokvalitetnom rastu!